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DQX等离子清洗机

    等离子体清洗设备作为一种精密干法清洗设备，可以应用于半导体开发 、集成电路开发 、真空电子行业 、塑料、玻璃和陶瓷表面活化以及微晶玻璃、继电器件的后续清洗．也可用于生命科学实验等。

★ 特点：

    ※ PLC控制，工艺参数、运行时间、工艺过程实时监视并显示运行状态包括自动模式和手动模式 
    ※ 自动模式下可同时存储50组不同的配方 
    ※ MFC质量流量计控制（标准配置2路） 
    ※ 气体流量：(0～100)ml/min （标准气压,0℃）
    ※ 真空度：(10～1000)Pa 
    ※ 清洗时间、基础压力、功率、流量设定可调 
    ※ 工作气体压力、压缩空气压力、泵热过载、反应仓泄露、反射功率过大报警 
    ※ 可根据客户工艺定制在线式等离子体清洗机

  ★ 技术规格：
型 号
等离子体频率
反应仓尺寸(mm)
外型尺寸(mm)
真空泵
DQX-110
40 kHz
500×500×400
1 100×750×1 600
内置
DQX-210
13.56 MHz
500×500×400
1 100×950×1 600
内置
DQX-206
13.56 MHz
450×450×300
1 000×900×1 600
内置
DQX-120
40 kHz
450×450×300
600×600×1 100
外置
DQX-220
13.56 MHz
450×450×300
600×600×1 100
外置
DQX-320
2.45 GHz
300×300×250
600×600×500
外置
DQX-102
40 kHz
150×300×150
600×600×300
外置
DQX-202
13.56 MHz
150×300×150
600×600×300
外置